NIM900 (1)
NIM900 (1)
倒置金相显微镜NIM900
NIM900系列科研级倒置金相显微镜可应用于钢铁、汽车、微电子等制造业样品的观察和检测。相对于传统的正置金相显微镜,此款倒置显微镜的优点是对样本形状的限制少。无论是厚的、重的、大的,甚至是不规则形状的样本都可以用此款显微镜观察。
产品简介

能够满足大而重样本观察需求的倒置金相显微镜

倒置金相显微镜NIM900可应用于钢铁、汽车、微电子等制造业样品的观察和检测。相对于传统的正置金相显微镜,此款倒置显微镜的优点是对样本形状的限制少。无论是厚的、重的、大的,甚至是不规则形状的样本都可以用此款显微镜观察。

  • 高性能机械载物台

三层机械移动平台,最高承重30kg,宽敞工作空间适配大而重的样品;载物台表面防划,适配各种材质和形状材料观察;配套多种载物台托板和不同形状/孔径的垫片,满足小体积样品观察分析;配备柔性低手位手柄,兼顾样品移动的准确性与操作舒适性。

·成像质量好,检查速度快

·人性化设计,使用舒适

·清晰的图像分析系统


  • NOMIS Basic 图像处理系统,清晰的图像分析技术   

·软件功能多样,满足您不同图像处理与分析需求。

·多种摄像头可供选择,提供优质的显微拍摄方案。

·通用USB3.0接口,可提供高速的图像传输。


  • 图像拼接

NOMIS Basic通过实时采集图像或导入图像,可以快速将小幅图像进行拼接,形成一幅大尺寸、高分辨率的图像。

高清实时HDR图像/视频

当观测不同的样本时,样本表面会显示出高对比度的区域。HDR使用户在点击之间完成完美曝光图像的生成 

实时/静态测量

典型观测和质量控制需要交互式的测量功能,例如:距离,角度,矩形,圆形和椭圆。

景深融合/3D重建

NOMIS Basic提供景深融合和3D重建功能。


  • 全场景多观察方式

覆盖明场、暗场、微分干涉 (DIC)、偏光、荧光五种核心观察模式,可清晰呈现电子芯片、青铜粉末、电极、高铬镍合金、氮化硅压纹、集成电路等各类样品的微观结构,满足材料科学复杂的科研与检验需求。

产品参数

光学系统

无限远光学系统

目镜

·SW10X/22 ·SW10X/23 ·EW12.5X/17.5 ·WF15X/16 ·WF20X/12

观察头

铰链式三目(带勃氏镜),45 度倾角,瞳距 47-78mm

物镜

无限远平场半复 / 复消色差物镜(明暗场通用)

转换器

六孔物镜转换器,带 DIC 插槽

照明

·12V100W 可调卤素灯 ·四波段 LED 荧光 ·100W 汞灯

调焦系统

同轴粗微动升降机构,移动行程 9mm( 向上 2mm,向下 7mm), 粗调行程 2mm/ 每圈,微调行程 0.2mm/ 每圈

载物台

三层机械移动平台,移动范围 130X85mm, 柔性手柄,可根据需求在顶层平台上安装不同尺寸的小工作台

载物托盘

Ф20 场光圈,Ф28 场光圈,水滴型场光圈

中间倍率

倍率 1X,1.5X

机身端口

转盘式端口切换(左侧端口 / 右侧端口 / 目镜观察), 分光比:左侧 / 目镜 =100/0; 右侧 / 目镜 =80/20; 选配 / 目镜 =0/100

观察方式

明场,暗场,微分干涉,偏光,荧光

应用领域
氮化硅的压纹,反射,暗场
暗场观察
电子芯片,反射,明场
明场观察
集成电路,反射,DIC
DIC观察
青铜粉末,反射,偏光
偏光观察
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